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廣電計量檢測集團股份有限公司

SYDC-100H型恒溫型浸漬提拉鍍膜機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱上海三研實驗儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號上海三研
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間2018/5/14 9:00:00
  • 訪問次數838
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工欲善其事,必先利其器。


我公司致力于為納米材料領域的科學研究提供優(yōu)質的儀器設備。提供、準確、高校的分析檢測服務。


我們專業(yè)設計并生產用于納米薄膜材料制備的浸漬提拉鍍膜機。SYDC-100基本型、SYDC-100型、SYDC-100H型、SYDC-200型、SYDC-300型、SYDC-500型以及SYDC-1000型浸漬提拉鍍膜機,可用于從10mm1000mm不同尺寸樣片的納米薄膜制備??煽刂颇雍穸葟膸资翈装偌{米,乳液及高分子涂層厚度可至微米級。全自動程序控制,高精度傳動裝置、運行穩(wěn)定,鍍膜時液面無振動,確保膜層均勻。應用于納米薄膜材料研究實驗室、科研單位,太陽能光伏公司。


我們提供用于納米材料合成研究的水熱反應釜。產品有SYF220系列、SYF280系列、SYF500系列,其Z高反應溫度分別為220280、500。其中SYF220系列、SYF280系列為聚四氟乙烯內襯、304不銹鋼外套。SYF280系列聚四氟乙烯內襯采用特殊成型工藝技術,Z高可承受280。SYF500系列內襯、外套均為361L不銹鋼材料。


我們提供分析檢測服務。配置了空氣凈化1000級和100級的兩類超凈化學實驗室,總面積500多平方米。高分辨電感耦合等離子質譜、離子色譜、氣質聯(lián)用儀、石墨爐原子吸收分光光度計等*分析檢測儀器。使用的無機酸試劑經過進口亞沸蒸餾裝置提純,安裝有Millipore純水裝置,制備的去離子水電阻率>18.2 MΩ•cm ,所用前處理器皿均為國內外*的PFA材質的試驗分析器皿,滿足微量、痕量元素分析前期樣品制備的需要??商峁┑臋z測有:電子級試劑檢測,超純檢測,硅材料、單晶硅、多晶硅檢測,超凈區(qū)域環(huán)境檢測。


 

浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機
SYDC-100H型恒溫型浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 Dip Coater是專門為液相(特別是sol-gel法)制備薄膜材料而設計,對不同液體在恒溫箱體中通過浸漬提拉生長薄膜。恒溫溫度、提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調、精密控制。對鍍膜基質無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、液面無振動,可*提高實驗精度與實驗效率。
SYDC-100H型恒溫型浸漬提拉鍍膜機 產品信息

一.    產品應用

SYDC-100H型恒溫型浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 Dip Coater主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液(溶膠)中,通過預先設置的參數,將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜,稱為 “濕凝膠膜,隨著濕凝膠膜膜層中溶劑的揮發(fā),膜層在基片上固化成為干凝膠膜。干凝膠膜經過進一步的干燥及高溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。

二.     產品簡介

SYDC-100H型恒溫型浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 Dip Coater是專門為液相(特別是sol-gel法)制備薄膜材料的研究工作而設計,對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調、精密控制。對鍍膜基質無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可*提高實驗精度與實驗效率。

垂直提拉機 提拉涂膜機 Dip Coater適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應用于科學研究、產品生產。

三.     產品特點

1.        采用自主設計的*的精密傳動裝置;

2.        提拉機構、程控系統(tǒng)來自中國臺灣及日本進口,確保運行精度及穩(wěn)定性;

3.        多參數全自動控制;提拉速度連續(xù)可調;

4.        鍍膜過程采用4.3寸液晶觸摸屏使控制更方便;恒溫場溫度LCD液晶顯示可編程控溫,。

5.        運行時,各項參數實時顯示,更直觀了解鍍膜進程;

6.        高、低速均運行平穩(wěn),鍍膜時液面無振動,使成膜更均勻;

7.        整個鍍膜過程在恒溫溫度場內進行,可精密控溫,溫度均勻性好。

8.        特殊設計的平口型夾具,兩面均勻夾持樣片,不會夾壞樣片;

四.     技術參數

1.        提拉速度范圍:15000 μm/s,zui小分辨率1μm/s;

2.        適用基片尺寸:MIN 5×5 mmMAX 100×100 mm,厚度MAX 10mm;

3.        浸漬時間:11200 s,zui小分辨率1s;

4.        鍍膜次數:1~100次,zui少1次;

5.        每次鍍膜間隔時間:13600 s,zui小分辨率1s;

6.        恒溫溫度:RT+10200,溫度分辨率0.1

7.        溫度波動度≤±0.2;

8.        恒溫場內尺寸:340×320×320 mmW×D×H);

9.        電源:220V/50Hz

關鍵詞:鍍膜機
15700106413
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