60K 桌面型
60K 寬噴型
超聲波沉積光刻膠霧化噴涂設(shè)備介紹：
在傳統(tǒng)的高速旋涂無法提供均勻覆蓋深孔形貌或高縱橫比的應用中，用均勻的光刻膠薄膜涂覆半導體成為了完整的解決方案。與傳統(tǒng)的旋涂相比，采用超聲波噴涂的光致抗蝕劑涂層在沉積更均勻的涂層方面具有優(yōu)勢，特別是在高深寬比溝槽和v形槽結(jié)構(gòu)中沿側(cè)壁頂部沉積時，離心旋涂無法沉積均勻的涂層沿著側(cè)壁形成膜，而沒有過多的光致抗蝕劑沉積在腔體的底部。事實證明，使用超聲技術(shù)進行直接噴涂是將光刻膠沉積到3D微結(jié)構(gòu)上的可靠且有效的方法，從而減少了因金屬過度暴露于抗蝕劑涂層而導致的設(shè)備故障。
超聲波沉積光刻膠霧化噴涂設(shè)備組成：
整機由超聲波霧化噴嘴，驅(qū)動電源，XYZ三軸聯(lián)動伺服系統(tǒng)，智能化操作系統(tǒng)，液體供給系統(tǒng)，低速空氣整形裝置，外殼箱體等組成。
優(yōu)勢：
一、各種表面輪廓的高均勻薄膜覆蓋率。
二、能夠以高均勻度涂覆高深寬比的溝槽。
三、無堵塞的霧化噴涂。
四、能夠以高均勻度沉積薄的單微米層。
五、經(jīng)過驗證的可重復噴涂工藝。
應用：
超聲噴涂設(shè)備主要應用在燃料電池、薄膜光伏電池、薄膜太陽能涂料、鈣鈦礦太陽能電池、太陽能電池、石墨烯涂層、硅光伏電池、玻璃鍍膜、電子電路等行業(yè)。噴頭可適用于多種溶液，污水、化工液體、油料粘液也能霧化。
服務：
我們提供用于霧化噴涂的各種超聲波處理器。我們也隨時為您提供滿意的加工定制服務并為您提出蕞佳解決方案。
