鍍膜機(jī)主要用于鍍膜,主要有感應(yīng)蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜兩大類,對(duì)于感應(yīng)蒸發(fā)鍍膜機(jī),通常目標(biāo)被加熱以原子團(tuán)或離子的形式蒸發(fā)表面成分。
厚度均勻性主要取決于:
1、基片表面溫度;
2、蒸發(fā)功率,速率;
3、真空度;
4、鍍膜時(shí)間。
真空鍍膜是在真空下應(yīng)用不同方法在柔性基體上實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍膜的一種技術(shù)。它涵蓋真空獲得、機(jī)電控制、高精傳動(dòng)和表面分析等多方面內(nèi)容。它的操作關(guān)鍵是,先要保障鍍膜的質(zhì)量,在這個(gè)前提下,再提高卷繞速率、控制鍍膜穩(wěn)定性及實(shí)施在線監(jiān)控。卷對(duì)卷技術(shù)成本低、易操作、與柔性基底相容、生產(chǎn)率高及可連續(xù)鍍多層膜等優(yōu)點(diǎn)。