高真空鍍布設備是由真空系統(tǒng)、卷繞系統(tǒng)、磁控靶濺射系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等部分組成，抽速快、排氣量大、真空度高、能耗較低，集效率高、穩(wěn)定、節(jié)能于一身，可實現(xiàn)在布、海綿等卷材上濺鍍銅、鉻、鈦、銀等，無褶皺，保障了產(chǎn)品質(zhì)量。
它是一種應用于紡織品行業(yè)、電子行業(yè)的鍍布、鍍海綿設備，包括如下幾個步驟：準備靶材，采用磁控濺射鍍布設備進行真空鍍，可設置銅靶、鈦靶、銀靶等多種靶材，進行多靶位或者單靶位的濺射鍍覆，鍍布卷速為1～15米/分鐘，布匹鍍寬為500～1700mm，卷徑可達到Φ500～Φ1300mm，成品無褶皺，保障產(chǎn)品質(zhì)量，保障布匹、海綿等卷材的剛?cè)嵝浴⒖刹眉艉涂p紉性等，可規(guī)模化應用于紡織品行業(yè)、電子行業(yè)。
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