高純氬廣泛應用于電子、冶金、機械、高純材料和儀器分析等產(chǎn)業(yè)部門和科學研究中。為直讀光譜儀、等離子光譜儀、輝光光譜儀、定氫儀和單晶硅、光電材料生產(chǎn)等提供穩(wěn)定的高純氬氣。
主要技術指標
1、輸入原氣
本純化裝置允許原料氬氣中的氧含量≤3000ppm、N2≤200ppm、水≤1000ppm（即露點低于-2 0 ℃），一般瓶裝純氬均能滿足這些要求。
2、輸出純氣
純氣的大輸出能力為4m³/h
純氣中雜質(zhì)含量：O2≤0.2ppm N2≤0.2ppm
H2O≤1ppm 即露點≤-76 ℃
C的氧化物≤0.1ppm S、P的氧化物≤0.1ppm
塵埃粒子數(shù)（≥0.3µm）3-5個/升，即100級
3、工作條件
工作壓力≤1.0MPa
催化塔工作溫度 260℃ 吸附塔工作溫度 室溫
合金吸附塔工作溫度 300℃ 吸附塔再生溫度 400℃
再生用氣量 500ml/min
4、電源
電壓 220V 催化塔 0.6kw 吸附塔工作時 0kw
合金吸附塔工作時0.6kw 再生時 1kw
5、外形和重量
450mm×635mm×1210mm 130kg
