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　　半導(dǎo)體廢水回用設(shè)備

　　工業(yè)的生產(chǎn)離不開(kāi)水，大多數(shù)工業(yè)企業(yè)都是高耗水行業(yè)，尤其是半導(dǎo)體行業(yè)，在生產(chǎn)中不可避免地產(chǎn)生含有各種污染物的廢水，其中含氟離子、含銅離子和含磷廢水更為嚴(yán)重。

　　半導(dǎo)體工業(yè)廢水主要包括硅片切割、磨削的廢水和半導(dǎo)體器件封裝外殼的電鍍廢水兩部分，其中半導(dǎo)體器件封裝外殼的電鍍廢水主要是指半導(dǎo)體集成電路器件封裝外殼的電鍍廢水和半導(dǎo)體分立器件封裝外殼的電鍍廢水，即在封裝外殼的金屬部件上層疊起導(dǎo)電和防腐作用的金屬層時(shí)產(chǎn)生的廢水，污染物主要是酸、堿、錫、鉛、銅、鎳等金屬離子以及有機(jī)物和有機(jī)絡(luò)合物。硅片切割磨削廢水是在硅片切割磨削過(guò)程中產(chǎn)生的，其中含有大量亞微米級(jí)硅顆粒、幾十納米以下金剛砂磨粒和清洗劑。

　　半導(dǎo)體廢水回用設(shè)備

　　萊特萊德半導(dǎo)體廢水處理設(shè)備針對(duì)半導(dǎo)體廢水的特點(diǎn)及處理難點(diǎn)，采用Neterfo極限分離系統(tǒng)，具有無(wú)變相、無(wú)污染、高效率、低耗能等諸多優(yōu)點(diǎn)，該系統(tǒng)發(fā)揮了膜的優(yōu)勢(shì)和性能，半導(dǎo)體廢水經(jīng)過(guò)處理后，可大量回收廢水中的有害重金屬離子，并且不會(huì)造成二次污染，使水資源實(shí)現(xiàn)再次利用。Neterfo極限分離系統(tǒng)是針對(duì)三高廢水專(zhuān)門(mén)開(kāi)發(fā)的一套膜深度處理系統(tǒng)，系統(tǒng)采用錯(cuò)流式PON抗污染技術(shù)、POM寬通道高架橋旁路技術(shù)等技術(shù)，實(shí)現(xiàn)高回收率和低能耗的廢水處理效果，是廢水回用、物料濃縮和分離等領(lǐng)域的理想選擇。