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NX-HDM 全自動缺陷檢測原子力顯微鏡

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產(chǎn)品簡介

NX-HDM 全自動缺陷檢測原子力顯微鏡

詳細(xì)介紹

對于工程師來說，識別介質(zhì)/平面基底的納米級缺陷的任務(wù)是一個(gè)非常耗時(shí)的過程，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)可以自動缺陷識別，通過與各種光學(xué)儀器的聯(lián)用可以提高缺陷檢測效率，越來越多的行業(yè)需要超平的介質(zhì)和基板來滿足不斷縮小的設(shè)備需求，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)具有業(yè)界0.5埃噪音，并將與其真正的非接觸式模式相結(jié)合實(shí)現(xiàn)亞埃級表面粗糙度的測試。

基本技術(shù)參數(shù)

200 mm電動XY平臺	電動Z平臺	噪音
行程可達(dá)150mm x 150mm, 2 μm重現(xiàn)性 0.095nm分辨率	25 mm Z行程距離 0.1μm 分辨率小于1μm 重現(xiàn)性	小于 0.5 μm/s
尺寸&重量	控制箱	設(shè)備需求環(huán)境
880（w）x 880（d）x 880（h） 620kg	600（w）x 900（d）x 1330（h） 170kg	室溫10 ℃~40 ℃ 操作18 ℃~24 ℃ 濕度 30%~60%

主要功能

1) 快速自動缺陷檢測功能

2) 亞埃級表面粗糙度的測量

3) 有最小的熱漂移，自動分析測量的數(shù)據(jù)

4) 在線監(jiān)測測試過程，

應(yīng)用

自動檢測缺陷

相關(guān)文獻(xiàn)

Foucher; R Therese; Y. Lee; S.-I. Park; S-J. Proc. SPIE 8681,Metrology, Inspection, and Process Control for MicrolithographyXXVII, 868106 (April 18, 2013); doi:10.1117/12.2011463

關(guān)鍵詞：顯微鏡