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半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備

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產(chǎn)品簡介

半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備

詳細(xì)介紹

  半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備概述

  半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備符合工業(yè)需求,避免漏水之運(yùn)轉(zhuǎn)設(shè)計(jì),極簡易之配管及回路設(shè)計(jì)需求,提供完整之電源供應(yīng)原件,可提供單一膜塊獨(dú)立電源供應(yīng),可顯示個(gè)別膜塊所消耗之電壓及安培數(shù),膜塊設(shè)計(jì)可承受工作壓力100psi,膜塊設(shè)計(jì)可承受工作溫度45℃(113 ),高溫專用膜塊可承受工作溫度80℃(176 ),*無需停機(jī)再生,影響制程,無需使用酸堿再生也無廢水排放。

  半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作流程

  預(yù)處理——RO裝置——中間水箱——中間水泵——EDI裝置——純水水箱——純水泵——用水點(diǎn)。

  半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備優(yōu)點(diǎn)

  不耗酸、堿、自動(dòng)再生。

  占地面積小,自動(dòng)化程度高。

  出水質(zhì)量高且可調(diào)整。

  單機(jī)產(chǎn)水量:50m3/h。

  產(chǎn)水電阻:≥15MΩ.cm(25℃)。

  適用于電廠化水、鍋爐補(bǔ)給水、冶金、汽車工業(yè)。

  半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備的工作原理

  EDI系統(tǒng)主要是在直流電場的作用下,通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動(dòng),利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質(zhì)進(jìn)行提純的一種科學(xué)的水處理技術(shù)。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜,陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列,構(gòu)成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜)。淡室水中陽離子向負(fù)極遷移透過陽膜,被濃室中的陰膜截留,水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽膜截留,這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少,成為淡水。而濃室的水中,由于濃室的陰陽離子不斷涌進(jìn),電介質(zhì)離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達(dá)到淡化,提純,濃縮或精制的目的。

  半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域

  1、電廠化學(xué)水處理。

  2、電子、半導(dǎo)體、精密機(jī)械行業(yè)超純水。

  3、食品、飲料、飲用水的制備。

  4、小型純水站,團(tuán)體飲用純水。

  5、精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水。

  6、其他行業(yè)所需的高純水制備。

  7、制藥工業(yè)工藝用水。

  8、海水、苦咸水的淡化。


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