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SKCC-ZZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（自旋轉(zhuǎn)靶頭）

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產(chǎn)品簡介

SKCC-ZZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（自旋轉(zhuǎn)靶頭）

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡介：SKCC-ZZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（自旋轉(zhuǎn)靶頭）適用靶材種類較廣，如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環(huán)形永磁體在靶頭上，以保證濺射鍍膜的效率和均勻性?？膳cDC或RF電源配合使用。

產(chǎn)品型號(hào)	SKCC-ZZB-X（高真空磁控濺射自旋轉(zhuǎn)靶頭）
產(chǎn)品規(guī)格	2寸，SKCC-ZZB-2 3寸，SKCC-ZZB-3 4寸，SKCC-ZZB-4 5寸，SKCC-ZZB-5 6寸，SKCC-ZZB-6 7寸，SKCC-ZZB-7
主要特點(diǎn)	1、轉(zhuǎn)靶帶擋板（可電動(dòng)控制，可手動(dòng)控制）； 2、采用電磁場的有元計(jì)算法來設(shè)計(jì)永磁體，以得到較高的磁場強(qiáng)度和均勻分布； 3、轉(zhuǎn)靶轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分可調(diào)； 4、標(biāo)準(zhǔn)的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配。 5、安裝采用標(biāo)準(zhǔn)真空接頭，便于操作。 6、靶材更換較為簡單，無需調(diào)整濺射頭的高度。
配套電源	1、直流DC；2、射頻RF