聚光科技E5000電弧直讀發(fā)射光譜儀

　　聚光科技E5000電弧直讀發(fā)射光譜儀具有全譜多元素同時分析、分析速度快、分析精準、穩(wěn)定性好等優(yōu)點，分析性能達到了水平。作為*粉末樣品元素分析的臺式全譜直讀發(fā)射光譜儀，E5000發(fā)射光譜儀擁有創(chuàng)新的高功率數(shù)控電弧光源、全自動激光對準的光源裝置、穩(wěn)定可靠的帕型-龍格全譜分光系統(tǒng)以及陣列CCD全譜測量技術，同時，E5000發(fā)射光譜儀結合時序分析、光譜自動校正等技術，采用固體樣品直接進樣的方法，全面解決了傳統(tǒng)技術分析繁瑣、效率低下、準確性差等問題，是光譜元素分析領域的重大突破。

聚光科技E5000電弧直讀發(fā)射光譜儀產(chǎn)品結構設計

　　電弧發(fā)射光譜技術與全譜直讀光譜技術結合，新一代固體粉末分析技術；
　　Paschen-Runge（帕型-龍格）全譜光學系統(tǒng)，能測定需要分析的所有常規(guī)元素；
　　緊湊的小型臺式設計，確保穩(wěn)定可靠、易用便捷；
　　防溢出CCD高速數(shù)采系統(tǒng)，信噪比高、動態(tài)范圍大；
　　高功率數(shù)控可編程光源，電流、電壓、頻率可控，提供更優(yōu)的分析方法；
　　多重連鎖和監(jiān)控，確保操作安全可靠；
　　全自動電極激光對準系統(tǒng)；
　　粉末樣品直接進樣，方便迅速；
　　一鍵激發(fā)，立刻獲得分析結果；
　　內(nèi)置工作曲線，客戶無需手動建線，切實提高工作效率；
　　軟件開放所有高級功能，為客戶提供*的方法開發(fā)平臺。
?全譜測量技術
　　全譜平臺擁有豐富的譜線信息，更易于元素擴展與方法開發(fā)；
　　基于全譜測量的數(shù)據(jù)，能夠正確區(qū)分背景和譜線，有效提高測量精度；
　　- 方便查看譜線及干擾情況
　　- 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式
　　強大的自動譜線去干擾算法；
　　- 通過算法扣除干擾譜線獲得干凈的待分析譜線
　　- 基于全譜測量數(shù)據(jù)的多峰擬合技術可將譜線*分開，有效消除譜線的干擾
　　根據(jù)元素的含量范圍選擇不同的分析譜線，大含量范圍的測量更準確；
　　- 多譜線結合，擴展分析范圍的同時，有效保證分析精度；
　　- 避免靈敏線飽和，不需要消釋樣品，取得更大的分析范圍；
CCD高速數(shù)采系統(tǒng)
　　防溢出線陣CCD；
　　采用動態(tài)積分，有效擴展CCD的動態(tài)范圍；
Paschen-Runge（帕型-龍格）全譜光學系統(tǒng)
　　恒溫型全固定光學系統(tǒng)；
　　全反射式光路；
　　光室結構緊湊；
　　一體式固定；
　　光學器件少，性能穩(wěn)定；
　　基于CCD的全譜采集和分析；
全新一代電弧數(shù)控光源
　　數(shù)控光源體積小、效率高；
　　基于數(shù)控可編程技術，光源的電流、電壓、頻率可調(diào)節(jié)；
　　分析不同含量的元素，選擇激發(fā)參數(shù)，降低元素分析的檢出線，改善元素分析的準確度；
　　可設置及讀取不同檢測階段的數(shù)據(jù)；
一鍵激發(fā)及全自動對準電極
　　樣品裝載激發(fā)一氣呵成，方便快捷；
　　多元素同時分析，直接得到zui終結果；
　　設計精良的電極挾持旋鈕；
　　紅外激光對準、的電極激光自動對準技術；
　　水冷電極夾提高檢測穩(wěn)定性；
多重連鎖和安全保護
　　可靠的水冷系統(tǒng)，分別對電弧光源和激發(fā)電極散熱；
　　實時監(jiān)控儀器的運行狀態(tài)，所有的連鎖狀態(tài)如冷卻水、排風、炬室門等都通過界面和指示燈等多種形式直接提醒；
　　界面上有關鍵溫度的顯示，*時間查看儀器的運行情況；
　　排風監(jiān)控，消除廢氣影響；
　　特殊的風道設計提高穩(wěn)定性；

水冷系統(tǒng) 

強大的分析軟件
　　便捷易用的分析軟件；
　　- 操作直觀、便捷、層次化的軟件界面，非專業(yè)人員也能方便操作
　　- 簡單的方法開發(fā)過程，各種檢測條件都可調(diào)節(jié)
　　強大的多元素分析平臺；
　　- 便捷的全譜查看
　　- 多元素分析及多譜線選擇
　　- 一鍵激發(fā)，直接在軟件上得到分析結果
　　- 豐富的方法庫有利于方法的傳承、學習和維護

可分析元素及多譜線選擇
　　全面智能的軟件算法；
　　- 內(nèi)置工作曲線，完善的時序分析，能夠實現(xiàn)定性、定量分析
　　- 豐富的處理技術，支持內(nèi)標法、基底扣除、干擾元素校正等分析方法
　　- 功能強大的高級處理功能，為客戶帶來更全面、更精確的分析體驗
　　*的智能漂移校正技術。